(PhysOrg.com) -- Nanolitografia, o modelli di superficie su scala nanometrica, è fondamentale per la tecnologia moderna, ma è stato sviluppato in gran parte per modellare superfici piane fino a poco tempo. Un team di scienziati dell'Università di Akron ha scoperto un nuovo metodo per modellare le superfici curve. La tecnica crea modelli su superfici curve o topograficamente irregolari con nanoparticelle autonome, aprendo nuove opportunità tecnologiche.

Risultati degli studenti laureati dell'Università di Akron Sarang P. Bhawalkar, Jun Qian (uno studente in visita dell'Università di Tianjin, Cina), Michael C. Heiber, e l'assistente professore di scienza dei polimeri Dr. Li Jia sono disponibili nel 16 novembre, numero 2010 di Langmuir , una pubblicazione dell'American Chemical Society.

“Le nanoparticelle disposte in modelli esagonali sono state ampiamente utilizzate per la modellazione della superficie prima del nostro lavoro, ma queste particelle si toccano e si sostengono a vicenda, ” spiega Jia. “Eravamo curiosi di sapere se potevamo usare particelle autonome che non si supportano a vicenda. Ci sono diversi vantaggi in questo. Tra questi c'è la possibilità di modellare superfici curve o irregolari. Considera la fotolitografia tradizionale, che è altamente efficiente nel mettere circuiti complessi su chip di computer piatti, ma inadatto a modellare superfici che non sono piatte”.

La sfida, secondo Jia, era quello di fissare il modello contro la forza capillare laterale. Quando questa sfida fu presentata a Sarang, la sua soluzione era di applicare uno strato di adesivo polimerico.

“Ha funzionato come un incantesimo, "dice Jia.

Secondo Jia, il metodo è una svolta grazie all'adattamento alle caratteristiche topografiche che vanno dalle scale macroscopiche a quelle microscopiche. Il team sta attualmente lavorando alla fabbricazione di superfici con una combinazione di diverse proprietà avanzate come l'autopulizia, antiriflesso e antigelo, dice Jia, chi nota l'opportunità di queste proprietà di superficie nei grattacieli, aerei, pannelli solari e finestre residenziali.

I ricercatori stanno testando il loro metodo di litografia su grandi superfici e la durata dei modelli quando sottoposti a fluttuazioni di temperatura e abrasione. Jia aggiunge che il prossimo passo di lui e dei suoi colleghi, in collaborazione con altri esperti, è esplorare le applicazioni del loro metodo di litografia nei circuiti ottici, imaging e rilevamento, e bioingegneria.