1. Forza del legame:
* Alf₃: Mostre di trifluoruro di alluminio legame ionico . La differenza di elettronegatività tra alluminio e fluoro è grande, portando al trasferimento di elettroni e forti attrazioni elettrostatiche tra gli ioni. Questi forti legami ionici richiedono una quantità significativa di energia per rompere, risultando in un punto di ebollizione elevato.
* Sif₄: Silicon Tetrafluoride mostre legame covalente . Mentre il legame SI-F è polare, la molecola è complessivamente tetraedrica e ha una distribuzione simmetrica della densità elettronica. Ciò significa che i momenti di dipolo si annullano, portando a forze intermolecolari più deboli (forze di van der Waals) tra molecole. Queste forze più deboli sono molto più facili da superare, portando a un basso punto di ebollizione.
2. Struttura reticolare:
* Alf₃: Il trifluoruro di alluminio forma un reticolo cristallino tridimensionale . Questa struttura forte e ordinata aumenta ulteriormente l'energia necessaria per rompere il solido e vaporizzarla.
* Sif₄: Il tetrafluoro di silicio è un solido molecolare con forze intermolecolari deboli che tengono insieme le molecole.
In sintesi:
* Il legame ionico in ALF₃ porta a forti forze elettrostatiche che richiedono molta più energia da superare rispetto alle forze più deboli di van der Waals in Sif₄.
* La struttura reticolare tridimensionale in ALF₃ rafforza ulteriormente i legami e aumenta l'energia richiesta per la vaporizzazione.
Questi fattori contribuiscono alla differenza significativa nei punti di ebollizione tra Alf₃ e Sif₄.
